{"id":1335,"date":"2022-07-08T11:06:39","date_gmt":"2022-07-08T03:06:39","guid":{"rendered":"https:\/\/wanda-chemical.com\/?p=1335"},"modified":"2025-08-08T17:58:04","modified_gmt":"2025-08-08T09:58:04","slug":"how-to-make-the-light-diffusion-film","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/wanda-chemical.com\/fr\/how-to-make-the-light-diffusion-film\/","title":{"rendered":"Comment fabriquer le film de diffusion de la lumi\u00e8re ?"},"content":{"rendered":"

La m\u00e9thode de pr\u00e9paration du film de diffusion de particules consiste \u00e0 recouvrir la surface du substrat d'une couche de r\u00e9sine m\u00e9lang\u00e9e \u00e0 des particules (telles que le TiO2). L'effet de diffusion de la lumi\u00e8re est obtenu gr\u00e2ce \u00e0 la diff\u00e9rence d'indice de r\u00e9fraction entre les particules dop\u00e9es et la r\u00e9sine formant le film. Toutefois, l'uniformit\u00e9 de la dispersion des particules \u00e9tant relativement difficile \u00e0 contr\u00f4ler, le film de diffusion de produit pr\u00e9par\u00e9 pr\u00e9sente les inconv\u00e9nients d'une faible transmittance et d'une faible plage de brume.<\/p>\n\n\n\n

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Avec le d\u00e9veloppement d'une technologie de micro-nano-fabrication plus avanc\u00e9e et moins co\u00fbteuse ces derni\u00e8res ann\u00e9es, les chercheurs ont commenc\u00e9 \u00e0 explorer l'optimisation des propri\u00e9t\u00e9s optiques des films de diffusion par le biais de la microstructure de la surface. La technologie de micro-usinage peut \u00eatre divis\u00e9e en trois types : la technologie graphique plane, la technologie graphique par sonde et la technologie graphique par mod\u00e8le.<\/p>\n\n\n\n

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Le c\u0153ur de la technologie des graphiques plans est constitu\u00e9 par ses caract\u00e9ristiques d'imagerie parall\u00e8le. Elle se caract\u00e9rise par un motif de conception sur le masque qui est reproduit sur un substrat plat en une seule exposition. L'exposition optique est la principale m\u00e9thode d'imagerie de la technologie graphique plane, c'est-\u00e0-dire la m\u00e9thode dite de \"lithographie\". Son principal avantage est son taux de production \u00e9lev\u00e9. Bien que l'exposition optique soit principalement utilis\u00e9e dans la fabrication de circuits int\u00e9gr\u00e9s, ce proc\u00e9d\u00e9 a \u00e9galement \u00e9t\u00e9 largement utilis\u00e9 ces derni\u00e8res ann\u00e9es dans la technologie des microsyst\u00e8mes pour fabriquer une vari\u00e9t\u00e9 de dispositifs microm\u00e9caniques, microfluides et micro-opto-\u00e9lectrom\u00e9caniques. Le proc\u00e9d\u00e9 plan est trait\u00e9 en parall\u00e8le, c'est-\u00e0-dire qu'un grand nombre de microstructures sont form\u00e9es en m\u00eame temps. Par cons\u00e9quent, le proc\u00e9d\u00e9 plan est un type de proc\u00e9d\u00e9 adapt\u00e9 \u00e0 la production de masse.<\/p>\n\n\n\n

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La technologie graphique des sondes est une m\u00e9thode d'imagerie ponctuelle, c'est-\u00e0-dire que l'imagerie est form\u00e9e par un balayage point par point. Les sondes comprennent non seulement des sondes \u00e0 l'\u00e9tat solide telles que la microsonde \u00e0 effet tunnel et la microsonde \u00e0 force atomique, mais aussi des sondes \u00e0 l'\u00e9tat non solide telles que le faisceau d'ions focalis\u00e9s, le faisceau laser, le faisceau atomique et la microsonde \u00e0 d\u00e9charge d'\u00e9tincelles. Toutefois, en raison de la caract\u00e9ristique de balayage point par point du processus de sonde, sa vitesse d'imagerie est beaucoup plus faible que celle de la m\u00e9thode d'imagerie parall\u00e8le dans le processus de plan, de sorte qu'elle n'est pas adapt\u00e9e \u00e0 la production de masse, mais convient mieux au traitement micro-nano dans la recherche scientifique.<\/p>\n\n\n\n

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Le processus graphique du mod\u00e8le consiste \u00e0 copier les micro-nanostructures correspondantes en utilisant des moules de taille micro-nanom\u00e9trique. Il s'agit notamment de
Technologie de la nano-impression, technologie du moulage plastique et technologie du moulage par coul\u00e9e. La nano-impression consiste \u00e0 utiliser des tampons contenant des nanomod\u00e8les pour imprimer la couche de polym\u00e8re organique ramollie, ce qui permet de reproduire un grand nombre de nanomod\u00e8les \u00e0 faible co\u00fbt. La technologie de la nano-impression a \u00e9t\u00e9 largement utilis\u00e9e dans la fabrication de transistors organiques \u00e0 couche mince, de microstructures bio\u00e9lastiques, etc. La technologie de moulage est la technologie traditionnelle de moulage du plastique, la taille de la structure de moulage est sup\u00e9rieure au micron, et elle est principalement utilis\u00e9e pour la fabrication de puces microfluidiques et de biopuces. La technologie du moulage est \u00e9galement une technologie de micro-usinage \u00e0 faible co\u00fbt. La technologie du moulage comprend le moulage du plastique et le moulage du m\u00e9tal. Le moulage et la coul\u00e9e sont tous deux l'extension de la technologie de traitement traditionnelle au domaine du micro et du nano-usinage. La vitesse de moulage du moulage et de la coul\u00e9e est rapide, ce qui en fait un processus adapt\u00e9 \u00e0 la production de masse.<\/p>\n\n\n\n

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Le d\u00e9veloppement de la technologie de traitement micro-nano susmentionn\u00e9e offre une nouvelle id\u00e9e pour la fabrication de films de diffusion de la lumi\u00e8re \u00e0 relief de surface. Certaines m\u00e9thodes ont \u00e9t\u00e9 rapport\u00e9es, telles que l'impression au rouleau compresseur [25pr 46], la lithographie par diffusion [36cr 47], le gaufrage \u00e0 chaud [48-50], l'auto-assemblage [39] et la gravure isotropique [51]. Huang, de l'universit\u00e9 nationale de Ta\u00efwan, et d'autres chercheurs ont effectu\u00e9 de nombreuses recherches sur la fabrication du film de diffusion de la lumi\u00e8re du r\u00e9seau de lentilles cylindriques et ont mis au point la technologie composite du moulage par extrusion et de l'impression sur tambour (illustr\u00e9e dans les figures 1 \u00e0 4) pour traiter le film de diffusion de la lumi\u00e8re du r\u00e9seau de lentilles \u00e0 colonne. La microstructure du tambour est copi\u00e9e directement sur la plaque extrud\u00e9e, ce qui permet une production en continu. La m\u00e9thode d'impression par rouleau d'extrusion utilise une extrudeuse avec une fili\u00e8re pour fabriquer des plaques granulaires de PC et de PMMA. La microstructure de la surface de la fili\u00e8re est transf\u00e9r\u00e9e \u00e0 la surface du film de diffusion de la lumi\u00e8re pr\u00e9par\u00e9 par la m\u00e9thode de l'empreinte. Le film de diffusion de la lumi\u00e8re pr\u00e9par\u00e9 dans l'exp\u00e9rience contient un diffuseur de lumi\u00e8re \u00e0 l'int\u00e9rieur et sa surface pr\u00e9sente une microstructure. Cependant, l'\u00e9quipement requis par cette m\u00e9thode est co\u00fbteux, et il est encore difficile d'extruder avec une \u00e9paisseur de moins de 500\u03bcm le film de diffusion.<\/p>\n\n\n

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Fig. 1-4 : Sch\u00e9ma de l'extrusion et du dispositif d'impression sur tambour : Les plaques granulaires de PC et de PMMA sont fabriqu\u00e9es par extrusion, puis la microstructure du tambour est transf\u00e9r\u00e9e sur la plaque extrud\u00e9e pour pr\u00e9parer le film de diffusion.<\/figcaption><\/figure>\n<\/div>\n\n\n

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Les \u00e9quipes de Sung-Il Chang et Jun-Bo Yoon du d\u00e9partement de g\u00e9nie \u00e9lectrique et d'informatique de l'Institut cor\u00e9en des sciences et technologies avanc\u00e9es ont men\u00e9 des recherches fructueuses sur la fabrication de r\u00e9seaux de microlentilles avec des rapports d'aspect \u00e9lev\u00e9s \u00e0 l'aide de la lithographie par diffusion (illustr\u00e9e \u00e0 la figure 1-5). La lithographie par diffusion permet de fabriquer des micro-nanostructures avec un rapport d'aspect \u00e9lev\u00e9, ce qui permet d'obtenir des diagrammes de rayonnement en forme d'ailes de chauve-souris. Cependant, la pr\u00e9paration d'une structure \u00e0 haut rapport d'aspect par lithographie par diffusion n\u00e9cessite un contr\u00f4le strict des param\u00e8tres d'exposition et de d\u00e9moulage.<\/p>\n\n\n

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figure1-5 (a) exposition du masque de diffusion ; (b) exposition ; (c)d\u00e9veloppement ; (d) pr\u00e9paration du moule en cuivre ; (e) pr\u00e9paration de la carte m\u00e8re ; (f) r\u00e9plication de la structure de la carte m\u00e8re \u00e0 la surface de la r\u00e9sine durcie aux UV.<\/figcaption><\/figure>\n<\/div>\n\n\n

Le gaufrage \u00e0 chaud est une m\u00e9thode de traitement dans laquelle la microstructure est pr\u00e9par\u00e9e \u00e0 la surface du moule, puis transf\u00e9r\u00e9e \u00e0 la surface du polym\u00e8re par impression. Les moules gaufr\u00e9s \u00e0 chaud utilisent g\u00e9n\u00e9ralement l'\u00e9lectroformage pour transf\u00e9rer le motif de la r\u00e9sine \u00e0 la surface de la plaque de nickel [52-53]. Dans le processus de gaufrage \u00e0 chaud, l'ajustement de la temp\u00e9rature peut am\u00e9liorer l'uniformit\u00e9 et la profondeur de la structure de transfert, mais une temp\u00e9rature trop \u00e9lev\u00e9e ou trop basse affectera les r\u00e9sultats de la reproduction de la structure. De m\u00eame, une pression trop faible entra\u00eenera une forme et une taille in\u00e9gales de la microstructure ; une pression trop \u00e9lev\u00e9e peut entra\u00eener une collision entre le moule et l'\u00e9chantillon, d\u00e9truisant ainsi la microstructure sur le moule.<\/p>\n\n\n

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Figure 1-6 Organigramme de l'impression \u00e0 chaud : (a) le film thermoplastique est appliqu\u00e9 par centrifugation sur la surface du substrat ; (b) la temp\u00e9rature est sup\u00e9rieure \u00e0 la temp\u00e9rature de transition vitreuse du mat\u00e9riau, et la plaque ma\u00eetresse est press\u00e9e sur la surface du film pour former le film ; (c) d\u00e9moulage ; (d) gravure pour \u00e9liminer la couche r\u00e9siduelle.<\/figcaption><\/figure>\n<\/div>\n\n\n

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