El dispersante ligero es un grupo de microesferas reticuladas de P M M A con di\u00e1metros de part\u00edcula de 1,8, 3,0, 10,0, 15,0 y 20,0 \u03bc m, y los n\u00fameros de tipo son respectivamente 1,8, 3,0, 10,0, 15,0 y 20,0 \u03bc m.<\/p>\n\n\n\n
1. 4 pruebas de habilidad sexual.<\/span><\/strong> <\/p>\n\n\n\n 1. 2 instrumentos y equipos.<\/span><\/strong> 1. 3 preparaci\u00f3n de la muestra.<\/span><\/strong> 1. 4 prueba de capacidad sexual.<\/span><\/strong> An\u00e1lisis SEM: la muestra se sumergi\u00f3 en nitr\u00f3geno l\u00edquido durante 10 minutos y se elimin\u00f3 directamente la fractura fr\u00e1gil. Despu\u00e9s de tratar la secci\u00f3n transversal con pulverizaci\u00f3n de oro, se observ\u00f3 en el SEM la dispersi\u00f3n del difusor de luz en la placa de difusi\u00f3n de luz de PC.<\/p>\n\n\n\n Prueba de propiedades mec\u00e1nicas, prueba de resistencia a la tracci\u00f3n seg\u00fan GB\/T1040.1-2006b<\/p>\n\n\n\n <\/p>\n\n\n\n 2. 2 el estudio del mecanismo de difusi\u00f3n \u00f3ptica se desprende de la 2.1 morfolog\u00eda microsc\u00f3pica que la luz se pliega tras el incidente.<\/span><\/strong> 1) La refracci\u00f3n se produce cuando la luz incidente entra en el sustrato del PC. 2) la luz incidente se refracta con el difusor de luz. <\/span><\/strong><\/p>\n\n\n\n Los \u00edndices de refracci\u00f3n del PC, el aire y las microesferas de PMMA reticulado difusor de luz son 1,59 y 1,00 respectivamente. As\u00ed que el diagrama de refracci\u00f3n anual de la luz en el material difusor de luz PC en China se muestra en la figura. <\/p>\n\n\n\n 2. Seg\u00fan la definici\u00f3n de neblina, es el porcentaje de la relaci\u00f3n entre el flujo luminoso dispersado de 2,5 heavy rain y el flujo luminoso que atraviesa el material que desv\u00eda parte de la luz paralela de la direcci\u00f3n incidente, por lo que cuantas m\u00e1s veces se refracte la luz en el sustrato, mayor ser\u00e1 en teor\u00eda la neblina. Seg\u00fan el diagrama de refracci\u00f3n de la difusi\u00f3n de la luz que se muestra en la figura 2, cuando hay poros en el material de difusi\u00f3n de la luz, el n\u00famero de refracciones de la luz es mayor que en el material de difusi\u00f3n de la luz sin poros, y como cuanto mayor es el tama\u00f1o de las part\u00edculas, menor es la relaci\u00f3n entre el di\u00e1metro de los poros y el di\u00e1metro del difusor de la luz, por lo que se especula que cuando aumenta el tama\u00f1o de las part\u00edculas del difusor de la luz, disminuye la neblina del material de difusi\u00f3n de la luz.<\/p>\n\n\n\n <\/p>\n\n\n\n Debido a que el tama\u00f1o de part\u00edcula del difusor de luz utilizado en este experimento es de 1,8 ~ 20,0 \u03bc m, y su tama\u00f1o es mayor que la longitud de onda visible, por lo que su efecto de difusi\u00f3n de la luz pertenece a la dispersi\u00f3n de Mie. De acuerdo con la ley de dispersi\u00f3n de Mie, las part\u00edculas esf\u00e9ricas se dispersan uniformemente en la resina matriz, y la intensidad de la luz dispersada del sistema es la transmitancia total de la luz, que es una funci\u00f3n del \u00edndice de refracci\u00f3n, tama\u00f1o de part\u00edcula, \u00e1ngulo de dispersi\u00f3n, y la longitud de onda de la luz incidente en el medio alrededor de las part\u00edculas [2]. Debido a que el \u00e1ngulo de dispersi\u00f3n y la longitud de onda de la luz incidente en el medio alrededor de las part\u00edculas son ciertos, cuando s\u00f3lo se consideran los efectos del \u00edndice de refracci\u00f3n y el tama\u00f1o de las part\u00edculas en las propiedades \u00f3pticas de la muestra, en un cierto rango, cuanto mayor es el tama\u00f1o de las part\u00edculas, mayor es la diferencia del \u00edndice de refracci\u00f3n, y la intensidad de la luz dispersada de la muestra es mayor. por lo tanto, en un cierto rango, se especula que la transmitancia de la luz aumenta con el aumento del tama\u00f1o de las part\u00edculas.<\/p>\n\n\n\n De acuerdo con el mecanismo de difusi\u00f3n de la luz, cuando el difusor de luz forma una estructura bif\u00e1sica con el sustrato de PC, se puede obtener cambiando el tama\u00f1o de las part\u00edculas del difusor de luz. Cambia la porosidad entre \u00e9ste y el sustrato de PC, por lo que no se considera aumentar el PC. La figura 4 muestra el efecto del tama\u00f1o de las part\u00edculas en la neblina de la placa de expansi\u00f3n \u00f3ptica de PC cuando se selecciona la longitud de onda de 600 nm de la figura 3.<\/p>\n\n\n\n Como puede observarse en la figura 4, la transmitancia luminosa disminuye con el aumento del tama\u00f1o de las part\u00edculas. La figura 5 muestra que la fracci\u00f3n de masa del difusor de luz es de 1,5%. La placa de color de inyecci\u00f3n con diferentes tama\u00f1os de part\u00edcula se selecciona para la prueba del espectr\u00f3metro UV, y la curva de transmitancia de luz de la placa difusora de luz PC se rellena con difusor de luz de diferentes tama\u00f1os de part\u00edcula dentro del rango de longitud de onda visible (390 ~ 780 nm). En la figura 5 se observa que la transmitancia luminosa aumenta con el incremento del tama\u00f1o de las part\u00edculas del difusor de luz.<\/p>\n\n\n\n <\/p>\n\n\n\n <\/p>\n\n\n\n La figura 6 muestra el efecto del tama\u00f1o de part\u00edcula del difusor de luz en la transmitancia de luz del difusor de luz de PC cuando se selecciona la longitud de onda de 600 nm de la figura 5. Se puede ver en la figura 6 que la transmitancia de luz aumenta con el aumento del tama\u00f1o de part\u00edcula, y alcanza el m\u00e1ximo cuando el di\u00e1metro de part\u00edcula es 20,0 \u03bc m, y la transmitancia de luz es 83,73%.<\/p>\n\n\n\n 2. 3. 3. A juzgar por el coeficiente de dispersi\u00f3n efectiva de la luz, el mejor tama\u00f1o de part\u00edcula del difusor de luz se puede ver a partir de la aplicaci\u00f3n pr\u00e1ctica de la placa de difusi\u00f3n de luz, el material de difusi\u00f3n de luz necesita cumplir los requisitos de alta transmitancia de luz y alta bruma al mismo tiempo. Por lo tanto, el producto de la neblina y la transmitancia de la luz, es decir, el coeficiente efectivo de dispersi\u00f3n de la luz, se introduce como una cantidad f\u00edsica para juzgar el rendimiento de difusi\u00f3n de la luz de la placa difusora de luz. En la figura 7, bajo la longitud de onda de 600 nm, se multiplican la transmitancia luminosa y la neblina para obtener la relaci\u00f3n entre el coeficiente efectivo de dispersi\u00f3n de la luz con el aumento del tama\u00f1o de las part\u00edculas del difusor de luz (1,5% de la fracci\u00f3n de masa del difusor de luz).<\/p>\n\n\n\n Como se puede ver en la figura 7, con el aumento del tama\u00f1o de part\u00edcula del difusor de luz, el coeficiente efectivo de dispersi\u00f3n de luz primero aumenta y luego disminuye, alcanzando el valor m\u00e1ximo de 69,68% cuando el di\u00e1metro de part\u00edcula es de 3,0 \u03bc m. Es decir, la placa de difusi\u00f3n \u00f3ptica de PC rellena con difusor \u00f3ptico de 3,0 \u03bc m puede cumplir los requisitos tanto de alta transmitancia de luz como de alta neblina. En este momento, la transmitancia de luz es 75,01%, y la bruma es 92,89%.<\/p>\n\n\n\n <\/p>\n\n\n\n 2.4 Efecto del tama\u00f1o de las part\u00edculas del difusor \u00f3ptico en las propiedades mec\u00e1nicas de la placa de difusi\u00f3n \u00f3ptica de PC.<\/span><\/strong> A) el mecanismo de la fuente de luz difusa de la placa de difusi\u00f3n de luz de PC consiste en que la luz incidente se refracta y refleja al atravesar el sustrato de PC, los poros y el difusor de luz. La curva de propiedades mec\u00e1nicas de la placa de difusi\u00f3n de luz de PC. Como puede verse en la figura 8, con el aumento del tama\u00f1o de part\u00edcula del dispersante de luz, la resistencia a la tracci\u00f3n de la placa difusora de luz de PC. <\/p>\n\n\n\n 2.4 Efecto del tama\u00f1o de las part\u00edculas del difusor \u00f3ptico en las propiedades mec\u00e1nicas de la placa de difusi\u00f3n \u00f3ptica de PC.<\/span><\/strong><\/p>\n\n\n\n En el proceso de uso pr\u00e1ctico, la placa de difusi\u00f3n \u00f3ptica no s\u00f3lo debe tener buenas propiedades \u00f3pticas, sino tambi\u00e9n cumplir los requisitos de resistencia a la tracci\u00f3n, resistencia al impacto y resistencia a la flexi\u00f3n en t\u00e9rminos de propiedades mec\u00e1nicas. La figura 8 muestra que la fracci\u00f3n de masa del fotodifusor es de 1,5%. Efecto del tama\u00f1o de part\u00edcula en las propiedades mec\u00e1nicas del fotodifusor relleno con diferentes tama\u00f1os de part\u00edcula de fotodifusor en 2015 MODERN PLASTICS PROCESSING AND APPLICATIONS 27 (1) Fig.8.<\/p>\n\n\n\n A) el mecanismo de la fuente de luz difusa de la placa de difusi\u00f3n de luz de PC es que la luz incidente se refracta y refleja cuando atraviesa el sustrato de PC, los poros y el difusor de luz. La curva de propiedades mec\u00e1nicas de la placa de difusi\u00f3n de luz de PC.<\/p>\n\n\n\n Se puede observar en la figura 8 que con el aumento del tama\u00f1o de part\u00edcula del fotodispersante, la resistencia a la tracci\u00f3n de la placa de fotodifusi\u00f3n de PC aumenta gradualmente, y la resistencia m\u00e1xima a la tracci\u00f3n es de 67,69 MPa cuando el di\u00e1metro de part\u00edcula es de 20,0 \u03bc m. Con el aumento del tama\u00f1o de part\u00edcula del fotodifusor, la resistencia al impacto entallado es b\u00e1sicamente sin cambios cuando el tama\u00f1o de part\u00edcula del fotodifusor es de 3,0 \u03bc m o menos, y disminuye r\u00e1pidamente cuando el tama\u00f1o de part\u00edcula sigue aumentando. Con el aumento del tama\u00f1o de part\u00edcula del fotodifusor, la resistencia a la flexi\u00f3n es b\u00e1sicamente sin cambios.<\/p>\n\n\n\n Esto se debe a que el contenido de difusor de luz a\u00f1adido en este experimento es menor, lo que no es suficiente para causar cambios evidentes en las propiedades de flexi\u00f3n. La resistencia a la tracci\u00f3n, la resistencia al impacto de entalla y la resistencia a la flexi\u00f3n de la placa de difusi\u00f3n \u00f3ptica son de 55,00 MPa, 60,00 kJ\/m2 y 100,0 MPa, respectivamente. La resistencia a la tracci\u00f3n, la resistencia al impacto de entalla y la resistencia a la flexi\u00f3n del fotodifusor son de 57,99 MPa, 68,13 kJ\/ m2 y 105,2 MPa, respectivamente, que cumplen los requisitos de las propiedades mec\u00e1nicas del difusor \u00f3ptico.<\/p>\n\n\n\n 3 conclusi\u00f3n.<\/span><\/strong><\/p>\n\n\n\n A) el mecanismo de la fuente de luz difusa de la placa difusora de luz de PC es que la luz incidente se refracta y refleja cuando atraviesa el sustrato de PC, los poros y el difusor de luz.<\/p>\n\n\n\n <\/p>\n\n\n\n B) con el aumento del tama\u00f1o de part\u00edcula del difusor de luz, la transmitancia de luz de la placa de difusi\u00f3n de luz PC aumenta y la niebla disminuye, cuando el di\u00e1metro de part\u00edcula es 20,0 \u03bc m, la transmitancia de luz es 83,73%, y cuando el di\u00e1metro de part\u00edcula es 1,8 \u03bc m, la niebla es 92,89%.<\/p>\n\n\n\n <\/p>\n\n\n\n C) cuando el di\u00e1metro de las part\u00edculas del difusor de luz es de 3,0 m, se puede obtener la placa de difusi\u00f3n de luz de PC con transmitancia de luz y alta neblina, y la placa de difusi\u00f3n de luz de PC preparada puede cumplir los requisitos de propiedades mec\u00e1nicas.<\/p>\n\n\n\n <\/p>\n\n\n\n <\/p>\n\n\n\n <\/p>\n\n\n\n <\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":" La transmisi\u00f3n de la luz aumenta y la turbidez disminuye con el aumento del tama\u00f1o de las part\u00edculas del agente de difusi\u00f3n de la luz.<\/p>","protected":false},"author":1,"featured_media":1167,"comment_status":"closed","ping_status":"open","sticky":false,"template":"","format":"standard","meta":{"footnotes":""},"categories":[20],"tags":[],"class_list":["post-1157","post","type-post","status-publish","format-standard","has-post-thumbnail","hentry","category-faq"],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/wanda-chemical.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/1157","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/wanda-chemical.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/posts"}],"about":[{"href":"https:\/\/wanda-chemical.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/types\/post"}],"author":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/wanda-chemical.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/users\/1"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/wanda-chemical.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=1157"}],"version-history":[{"count":2,"href":"https:\/\/wanda-chemical.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/1157\/revisions"}],"predecessor-version":[{"id":1168,"href":"https:\/\/wanda-chemical.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/1157\/revisions\/1168"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/wanda-chemical.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/media\/1167"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/wanda-chemical.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=1157"}],"wp:term":[{"taxonomy":"category","embeddable":true,"href":"https:\/\/wanda-chemical.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/categories?post=1157"},{"taxonomy":"post_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/wanda-chemical.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/tags?post=1157"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}
Seg\u00fan GB\/T 2410 Mel 2008, se mide en la banda visible.
La transmitancia de la luz (T t) y la transmitancia de la luz (T d) en la que la l\u00ednea de luz se desv\u00eda de la l\u00ednea de luz incidente original 2,5 \u00b0, la bruma se calcula que es TD \/ T t.
An\u00e1lisis SEM: la muestra se sumergi\u00f3 en nitr\u00f3geno l\u00edquido durante 10 minutos y se elimin\u00f3 directamente la fractura fr\u00e1gil. Despu\u00e9s de tratar la superficie con pulverizaci\u00f3n de oro, la muestra se trat\u00f3 mediante SEM MX-180, MX-300, MX-1000, MX-1500, MX-2000.
(las microesferas correspondientes se sustituyen por sus modelos a continuaci\u00f3n), con un \u00edndice de refracci\u00f3n de 1,49.<\/p>\n\n\n\n
Extrusora de doble husillo co-direccional, SHJ-35, China Guanda m\u00e1quina de caucho pl\u00e1stico.
F\u00e1brica de maquinaria; m\u00e1quina de moldeo por inyecci\u00f3n, HY600, Ningbo Haiying Plastic Machinery Co., Ltd. Espectr\u00f3metro UV-visible, UV-2450, Espectr\u00f3metro UV de esfera integradora, ISR-2200, Microespejo electr\u00f3nico de barrido (S E M), J S M-6360L A, Jap\u00f3n Shimadzu Co. Ltd.; m\u00e1quina de ensayo universal el\u00e9ctrica controlada por microordenador, W D T-10, Shenzhen Kai Qiangli Machinery Co. Ltd.; m\u00e1quina de ensayo de impacto, XJU-22, Chengde testing Machine Factory.<\/p>\n\n\n\n
El PC puro se sec\u00f3 a 110 \u00b0C durante 12 h y despu\u00e9s se duplic\u00f3.
El extrusor de tornillo se mezcla con diferentes tama\u00f1os de part\u00edculas de difusor de luz para producir 10% masterbatch de difusor de luz, y luego el masterbatch se mezcla con PC en una cierta proporci\u00f3n, y la placa de difusi\u00f3n de luz moldeada por inyecci\u00f3n con 1,5% fracci\u00f3n de masa de difusor de luz se prepara por el mecanismo de moldeo por inyecci\u00f3n.<\/p>\n\n\n\n
Seg\u00fan GB\/T 2410 Mel 2008, se mide en la banda visible.
La transmitancia de la luz (T t) y la transmitancia de la luz (T d) en la que la l\u00ednea de luz se desv\u00eda de la l\u00ednea de luz incidente original 2,5 \u00b0, la bruma se calcula que es TD \/ T t.<\/p>\n\n\n\n![\"\"](\"https:\/\/wanda-chemical.com\/wp-content\/uploads\/2021\/11\/95677911-C424-4C95-984A-C93842407C2E.png\")
Existen tres tipos de tiro:<\/p>\n\n\n\n
2) la l\u00ednea de luz incidente genera refracci\u00f3n en el orificio.
3) la l\u00ednea de luz incidente se refracta con el difusor de luz. Cuando el poro disminuye hasta desaparecer, la luz entra en el PC y se refracta.<\/p>\n\n\n\n![\"\"](\"https:\/\/wanda-chemical.com\/wp-content\/uploads\/2021\/11\/image.png\")
Compatibilidad entre el sustrato y el difusor de luz de microesferas de PMMA reticulado. 2.3 efecto del tama\u00f1o de part\u00edcula del difusor de luz en las propiedades \u00f3pticas de la placa de difusi\u00f3n de luz de PC. 1 respuesta de la sombra a la neblina.
La figura 3 muestra que la fracci\u00f3n de masa del difusor de luz es de 1,5%. La placa de color de inyecci\u00f3n con diferente tama\u00f1o de part\u00edcula se selecciona para la prueba del espectr\u00f3metro UV, y el resultado est\u00e1 dentro del rango de longitud de onda visible (390 ~).
(780 nm), la curva de neblina de la placa de difusi\u00f3n \u00f3ptica de PC se rellen\u00f3 con diferentes tama\u00f1os de part\u00edcula del difusor \u00f3ptico. Como puede verse en la figura 3, con el aumento del tama\u00f1o de part\u00edcula del difusor \u00f3ptico, disminuye la neblina de la placa de difusi\u00f3n \u00f3ptica de PC.<\/p>\n\n\n\n![\"\"](\"https:\/\/wanda-chemical.com\/wp-content\/uploads\/2021\/11\/image-1.png\")
![\"\"](\"https:\/\/wanda-chemical.com\/wp-content\/uploads\/2021\/11\/image-2.png\")
El valor m\u00e1ximo se alcanz\u00f3 cuando el di\u00e1metro de part\u00edcula fue de 1,8 \u03bc m, y la bruma fue 92,89%. 2. 3. 2 respuesta de la sombra a la transmitancia de la luz.<\/p>\n\n\n\n![\"\"](\"https:\/\/wanda-chemical.com\/wp-content\/uploads\/2021\/11\/image-3.png\")
![\"\"](\"https:\/\/wanda-chemical.com\/wp-content\/uploads\/2021\/11\/image-4.png\")
En el proceso de uso pr\u00e1ctico, la placa de difusi\u00f3n \u00f3ptica no s\u00f3lo debe tener buenas propiedades \u00f3pticas, sino tambi\u00e9n cumplir los requisitos de resistencia a la tracci\u00f3n, resistencia al impacto y resistencia a la flexi\u00f3n en t\u00e9rminos de propiedades mec\u00e1nicas. La figura 8 muestra que la fracci\u00f3n de masa del difusor de luz es de 1,5%, que se rellena con difusor de luz de diferente tama\u00f1o de part\u00edcula.
2015 PROCESAMIENTO Y APLICACIONES DE PL\u00c1STICOS MODERNOS 27 (1).
Fig. 8 Efecto de la granulometr\u00eda del difusor de luz sobre las propiedades mec\u00e1nicas.<\/p>\n\n\n\n
Cuando el tama\u00f1o de grano es de 20,0 \u03bc m, la resistencia m\u00e1xima a la tracci\u00f3n es de 67,69 MPa. Con el aumento del tama\u00f1o de part\u00edcula del difusor de luz, la resistencia al impacto entallado es b\u00e1sicamente sin cambios cuando el tama\u00f1o de part\u00edcula del difusor de luz es 3,0 \u03bc m o menos, y cuando el tama\u00f1o de part\u00edcula sigue aumentando, la resistencia al impacto entallado disminuye.
Deprisa. Con el aumento del tama\u00f1o de las part\u00edculas del difusor de luz, la resistencia a la flexi\u00f3n se mantiene b\u00e1sicamente sin cambios. Esto se debe a que el contenido de difusor de luz a\u00f1adido en este experimento es menor, lo que no es suficiente para causar cambios obvios en las propiedades de flexi\u00f3n.
La resistencia a la tracci\u00f3n, la resistencia al impacto de entalla y la resistencia a la flexi\u00f3n de la placa de difusi\u00f3n \u00f3ptica son de 55,00 MPa, 60,00 kJ\/m2 y 100,0 MPa, respectivamente. La resistencia a la tracci\u00f3n, la resistencia al impacto de entalla y la resistencia a la flexi\u00f3n del difusor \u00f3ptico son de 57,99 MPa, 68,13 kJ\/ m2 y 105,2 MPa, respectivamente, lo que satisface los requisitos de las propiedades mec\u00e1nicas del difusor \u00f3ptico.<\/p>\n\n\n\n![\"\"](\"https:\/\/wanda-chemical.com\/wp-content\/uploads\/2021\/11\/image-5.png\")
<\/figure><\/div>\n\n\n\n![\"\"](\"https:\/\/wanda-chemical.com\/wp-content\/uploads\/2021\/11\/AEB2BA33-AA6A-4C4F-8384-E8C43778CCC9.png\")
![\"\"](\"https:\/\/wanda-chemical.com\/wp-content\/uploads\/2021\/10\/silicone-base.png\")
<\/figure><\/div>\n\n\n\n